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黄光室是进行IC晶片微影成像术的区域,将光阻材料利用旋镀法被覆在晶园上,而后再放置于曝光机下进行曝光,以使紫外线光源透过光罩照射于光阻而得到感光图像,最后再以药剂进行显影而得到实际图像。
早期曝光机的光源为全光谱光源,后演进到G-LINE(436 mm)光源,目前最为广泛使用的为I-LINE(436mm)光源,对于0.3ūm线宽以下的IC制程,则需采用深紫外线(deep UV)248mm光源,甚至X光或电子束,目前光源较采用高压水银(汞)弧灯,由于其特性频谱,所以须经过滤光片以获得所需的I-LINE(365mm)光线。
为了避免光阻在曝光前、曝光后受到曝光机以外的光线照射而曝光,所以整个作业必须在黄光室下进行,换言之,所有照明用的光源须加以过滤,照明灯底罩及各式隔间门及窗皆应具有过滤波长380mm紫外光的能力。但必须注意的一点,有些黄色透明板虽然具有黄光,但对于紫外光却未完全隔绝,严格来说,这是不合格的产品。因为常被用
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3M的特点 虽然3M日照调节隔热膜的性能以及与Stallmach的关系是主要的卖点,但是Thompson说他对3M公司的支持印象也非常深刻︰「3M非常热心帮忙。3M夜景日照调节隔热膜是新产品,他们希望确保我们获得所需的所有数据,还邀请发明该技术的3M公司向我们说明日照调节隔热膜如何发挥作用,这都是我们未预料到的。」 |
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